晶元清洗機 JHPBT-650
手動放入
真空吸附
固定
擺臂旋轉
二流體清洗
腔壁加熱
漂洗
高速離心
脫水取出
擺臂式無盲區 · 轉速 100~2000 R/Min
晶圓與精密光電元件對清洗方式要求嚴苛——既要徹底去除粉塵與雜質，又不能造成任何表面損傷。晶元清洗機 JHPBT-650 採真空吸附式清洗盤固定晶元（支援 4~12 吋），以擺臂旋轉清洗技術搭配二流體噴射確保無盲角清潔，高速離心脫水（轉速 100~2000 R/Min 可調）快速去水，全流程參數可程式化設定，安全光柵自動門保障操作安全，適用於半導體封裝、光學鏡頭製造、CMOS 模組等高端製程。
產品規格
| 項目 | 規格 |
|---|---|
| 機器尺寸 | 700mm(L) × 650mm(W) × 1100mm(H) |
| 清洗尺寸 | 4 ~ 12 吋晶元清洗吸盤（可選配） |
| 清洗機構 | 真空吸附 + 擺臂旋轉 + 二流體清洗 |
| 離心轉速 | 100 ~ 2000 R/Min（可調） |
| 安全防護 | 安全光柵自動門，實時在線監控 |
核心優勢
真空吸附保護 固定晶元安全可靠，操作方便，避免夾持損傷。
擺臂無盲區清洗 清洗範圍可設定，無二次污染，全面潔淨。
可程式化控制 清洗時間、流程與各項參數依作業需求編制，靈活適應各種生產環境。
