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覆晶底膠(Flip-Chip Underfill)量產實務|電漿前處理、氣泡對策與放行門檻

覆晶底膠(Flip-Chip Underfill)量產實務|電漿前處理、氣泡對策與放行門檻

覆晶封裝(Flip-Chip)的底膠(Underfill)看起來只是「把膠灌進晶片與基板之間」,但決定成敗的不是灌得快不快,而是介面強度、殘留控制與固化程度。這篇整理嘉鴻工程團隊的內部研究與導入報告,把文獻回顧、產線實驗(接觸角量測、玻片通道流動、C-SAM 檢測)得到的數據,寫成可以直接放進製程文件的判斷依據與放行門檻。

用語說明:本報告原文標題使用「翻晶」。台灣半導體封裝業界的通用譯名是「覆晶」——台灣主要封測廠與材料世界網、DigiTimes 等業界媒體都使用這個詞。本頁一律採用「覆晶」,遇到原文用語時併列標註,方便您用業界慣用詞搜尋與溝通。

一、四種底膠方案與選型原則

方案作法特性與限制
毛細底膠 CUF(Capillary Underfill)回焊之後,底膠靠毛細作用從晶片邊緣流入凸塊之間最常見的作法。晶片與基板的熱膨脹係數(CTE)差異會在焊錫接點產生應力,高填充量的環氧樹脂底膠能分散這個應力,大幅提升可靠度。
免流底膠 NFU(No-Flow Underfill)把助焊劑與底膠整合為一道製程產能較高,但填料量通常受限,導致有效 CTE 偏高;介面偏好也可能改變,常見弱點轉移到焊錫或防焊層。
模塑底膠 MUF(Molded Underfill)在轉注或壓縮成型過程中同時完成封裝與底膠允許高填料量,Cycle Time 有機會縮短,但排氣、注入壓力與溫度都需要最佳化。
晶圓層級薄膜在晶圓階段預先貼附底膠薄膜當單顆晶片層級的流動時間成為瓶頸時,這個方向值得評估。
原文明確寫出選型原則:依「介面風險」加上「線上能力(清洗/電漿/固化)」綜合決定,而不是只看哪一種流得快。這句話值得放進評估表的第一行——流動時間是最容易量的指標,也最容易讓人忽略真正的失效位置。

二、毛細流動公式:哪些參數真的縮短得了時間

平行板之間的毛細流動時間,原文附錄給的關係式是:

T ≈ 3μL² / (h·γ·cos θ)

  • μ:黏度。降低黏度可縮短流動時間,但黏度通常與填料量連動,降黏度往往等於降填料、抬高 CTE。
  • L:流動長度。注意它是平方項——晶片尺寸放大一倍,流動時間變四倍。這是大尺寸晶片底膠最難處理的根本原因。
  • h:晶片與基板的間隙。間隙越大流得越快,但間隙由凸塊高度決定,通常不是底膠製程能調的。
  • γ:表面張力。
  • θ:接觸角。降低 θ 可縮短時間,而這正是電漿前處理能著力的地方——也是產線上最可控的一項。
把這個式子看懂,就會知道為什麼電漿前處理的效益這麼大:μ 與 h 受材料與凸塊設計綁死,L 由產品決定,真正留給製程調整的只有 θ。

三、介面才是可靠度的瓶頸

嘉鴻工程團隊的操作模型把 底膠與焊錫的介面(UF–錫)視為主要風險介面;底膠與鈍化層(SiO₂/Si₃N₄)的介面則因為表面極性高、可與矽烷偶聯劑形成化學鍵結,相對穩定。

  • 展延係數 S = γ_s − γ_l − γ_sl 與底膠對錫面的接著力呈相關性,可以用在「底膠與金屬化層配對」的篩選矩陣上。
  • 在 PCB 疊構中,防焊層與基材之間可能本身就是內部弱層——即使底膠的潤濕看起來沒問題,失效仍可能發生在那裡。
  • 換句話說:潤濕好看不等於接得牢。潤濕決定流得進去,接著強度決定撐不撐得住熱循環。
這一點決定了驗證要做什麼:只看流動時間與外觀填充率,看不出 UF–錫介面的強度。要看的是拉剪/剝離強度,以及破壞模式是落在介面(interfacial)還是材料內聚(cohesive)——後者才代表介面比材料本身更強。

四、「免洗助焊劑」不等於「沒有殘留」

這是報告裡態度最明確的一節。原文的用語是:把 no-clean 當成 low-clean 看待。

  • 玻璃與石英的可視化流動實驗加上 C-SAM 檢測顯示:免洗助焊劑的殘留會降低毛細流動速度,並在流動前緣誘發氣泡。
  • 助焊劑用量越多,影響越明顯——這是劑量相關的效應,不是有或沒有的問題。
  • 回焊後以皂化劑(saponifier)清洗,可以恢復介面強度,並降低 C-SAM 上的氣泡與分層訊號。
落到現場的政策就是一句話:覆晶底膠產線一律視為必須清洗,而且要驗證清洗效果,不要因為助焊劑標示 no-clean 就跳過這道。這與清洗標準的演進方向一致——判定依據是實際量到的殘留與可靠度,不是材料標示。

五、O₂ 電漿前處理:實測數據

O₂ 電漿會在聚醯亞胺等介電材料表面增加含氧官能基,降低接觸角並加速流動。報告列出的代表性數據如下,這些是嘉鴻在自家試片上重現的結果:

指標處理前處理後
接觸角 θ約 40°約 20°
流動時間(20 mm 通道)約 60 秒約 22 秒
膠角高度(fillet,原文用「倒角高度」)—提升至晶片高度的 20% 以上
膠角不均衡度較高降低
拉剪/剝離強度—成倍數提升
破壞模式介面破壞轉為材料內聚破壞
  • 氣體效果排序:O₂ 優於 N₂,N₂ 優於 Ar;提高 O₂ 比例可以進一步降低接觸角。
  • 流動時間從 60 秒降到 22 秒,是接近三分之一的 Cycle Time 改善——但更重要的是破壞模式從介面轉為內聚,代表介面已經強過底膠本身。
  • 報告的作法是每批量測接觸角與流動時間,當成製程管制指標,而不是導入時量一次就算數。

六、氣泡的三種成因與各自的對策

報告把底膠氣泡分成三類,各自的成因不同,對策也不能混用:

類型成因對策
流動前緣碰撞點膠路徑讓兩道流動前緣相遇,中間的空氣被包住出不去改變點膠路徑,避免前緣對撞;或改用噴射點膠(jetting)
固化放氣材料或基板吸附的濕氣、殘留溶劑在固化升溫時釋出固化前預烘除濕
殘留誘發助焊劑殘留在流動前緣誘發氣泡回焊後以皂化劑清洗

檢測手段有三種:玻璃或石英基板的動態流動觀察(看得到前緣怎麼走)、C-SAM 超音波掃描(看得到內部氣泡分布)、以及截面分析(看得到確切位置與形貌)。

三類氣泡在 C-SAM 影像上可能長得很像,但對策完全不同。先用玻璃或石英做一次動態觀察,通常就能分辨是不是前緣碰撞造成的——這一步能省下很多在錯誤方向上的調機時間。

七、分層與「變形蟲」焊料外溢

這是底膠製程最嚴重的失效模式。報告描述的成因鏈是:弱介面 + 氣泡 + 長時間高溫停留,三者疊加會導致分層與焊料外溢,後者因為形狀不規則而被稱為「變形蟲(Amoeba)」。

  • 關鍵風險點:若底膠模數在 160~220 °C 區間大幅下降,即使只經過一次回焊也可能觸發焊料外溢。這個溫度區間正好涵蓋二次回焊(上板)的製程溫度。
  • 已在驗證規模上確認有效的對策:後段延長固化——材料允許時採 150 °C × 3 小時,可達成超過 99% 的機械固化、提高 Tg,並消除分層與外溢事件。
  • 報告的導入版本採 150 °C × 2~3 小時的延長固化視窗(視材料而定)。
這裡有一個容易被誤判的地方:DSC 量到的「化學轉化率」與 DTMA 量到的「機械固化」不是同一件事,而後者與分層風險的相關性比較好。若只用 DSC 判定固化完成,可能得到「化學上已經固化,機械上還沒到位」的結果,而分層正是從這個缺口發生的。

八、量測項目與放行標準

製程管制(SPC)指標

  • 接觸角 θ:分中心與邊緣量測(兩處差異本身就是前處理均勻度的指標)
  • 流動時間:以固定通道量測,報告採 10 mm × 20 mm 路徑、75 μm 間隙的試片
  • 膠角高度與不均衡度
  • C-SAM 氣泡面積
  • DTMA 模數與 Tg
  • 點膠溫度下的流變特性

放行門檻

項目門檻
膠角高度(fillet)大於或等於晶片高度的 20%
膠角不均衡度小於或等於 30%
C-SAM(固化後)不得新增分層
Tg高於使用溫度上限
接觸角 θ趨勢在管制界限內

變更管制

底膠或助焊劑只要有變更,就必須做成對試片(黏著/接觸角/流動)加上短期可靠度篩選。可靠度抽驗的項目包含熱循環與 HAST/PCT(高壓蒸煮)等,用來驗證各個製程視窗。

「成對試片」是關鍵字:新舊材料在同一批、同一條件下一起做,才能把材料差異與批次漂移分開。單獨做新材料的試片,數字再漂亮也無法證明是材料帶來的改善。

常見問題

「翻晶」和「覆晶」是同一件事嗎?

是的,都是 Flip-Chip 的中文譯名。台灣半導體封裝業界的通用詞是「覆晶」——主要封測廠與產業媒體都使用這個詞。本報告原文用「翻晶」,兩者指同一種把晶片翻轉、以凸塊直接接合到基板的封裝方式。與廠商或同業溝通、或查資料時,建議使用「覆晶」。

底膠為什麼一定要打?不打會怎樣?

晶片與基板的熱膨脹係數(CTE)差異很大,溫度變化時兩者伸縮幅度不同,應力會全部集中在焊錫凸塊上。底膠是高填充量的環氧樹脂,灌進晶片與基板之間後能把這個應力重新分配到整個膠層,而不是讓凸塊獨自承受。這是覆晶封裝可靠度的關鍵,尤其在熱循環測試下差異非常明顯。

晶片尺寸變大,底膠流動時間會增加多少?

依毛細流動關係式 T ≈ 3μL²/(h·γ·cos θ),流動長度 L 是平方項。晶片邊長放大一倍,流動時間大約變成四倍。這是大尺寸晶片底膠製程最根本的困難,也是評估免流底膠、模塑底膠或晶圓層級薄膜方案的主要動機。

助焊劑標示「免洗(no-clean)」,還需要清洗嗎?

在覆晶底膠產線上建議一律清洗。玻璃可視化與 C-SAM 實驗都顯示,免洗助焊劑的殘留會降低毛細流動速度並在流動前緣誘發氣泡,而且助焊劑用量越多影響越大。回焊後以皂化劑清洗可以恢復介面強度、降低分層與氣泡。原文的說法是:把 no-clean 當成 low-clean。

電漿前處理要用哪一種氣體?

報告的效果排序是 O₂ 優於 N₂,N₂ 優於 Ar;提高 O₂ 比例可以進一步降低接觸角。實測數據是接觸角從約 40° 降到約 20°、20 mm 通道的流動時間從約 60 秒降到約 22 秒,同時膠角高度提升、不均衡度下降、拉剪與剝離強度成倍數提升。

怎麼判斷介面到底夠不夠強?

看破壞模式,不要只看強度數字。如果破壞發生在介面(interfacial),代表介面是最弱的一環;如果破壞轉為材料內聚(cohesive),代表介面已經比底膠本身更強,這才是前處理到位的訊號。報告中 O₂ 電漿處理後的破壞模式正是從介面轉為內聚。

什麼是「變形蟲」?為什麼一次回焊就可能發生?

變形蟲(Amoeba)指的是焊料從凸塊擠出、形成不規則外溢形狀的失效。成因是弱介面、氣泡與長時間高溫停留三者疊加。關鍵在於底膠模數若在 160~220 °C 區間大幅下降,就失去了約束焊料的能力——而這個溫度區間正好涵蓋二次回焊上板的製程溫度,所以即使只經過一次回焊也可能觸發。

DSC 顯示已經完全固化,為什麼還是分層?

因為 DSC 量的是化學轉化率,DTMA 量的是機械固化,兩者不是同一件事,而且與分層風險相關性較好的是後者。化學上反應完成不等於機械性質到位。報告的對策是在材料允許的前提下採用延長固化(150 °C × 2~3 小時),達成超過 99% 的機械固化並提高 Tg。

底膠或助焊劑換料,要重新做哪些驗證?

報告的變更管制要求是:做成對試片,量黏著強度、接觸角與流動時間,再加一輪短期可靠度篩選(熱循環、HAST/PCT 等)。重點是「成對」——新舊材料在同一批、同一條件下一起做,才能把材料差異與批次漂移分開。

標準出處

本文引用之規範,請以各發布機構之最新版本為準。

From:嘉鴻工程部

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