在線式真空電漿清洗機 JHPBT-590
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濕式清洗洗不掉的不是髒污，是表面活性。晶圓、COB 封裝與相機模組在打線、點膠、封膠之前，表面若殘留有機物或活性不足，後段的附著力與良率就守不住。JHPBT-590 在線式真空電漿清洗機以真空腔體乾式電漿處理，直接串在前後線體之間在線作業，清洗後水滴角可降至 20° 以下，單次處理時間 60 秒以內，處理溫度低於 45 °C，不對元件造成熱負擔。
適用範圍
- 各類晶圓與 COB 封裝的精密清洗
- 相機模組、IC 封裝相機模組清潔
- LED／晶片支架清潔
- BGA 基材清潔
設備組成
上下料系統、物料傳輸系統、電漿清洗系統、視覺監控系統、托盤移動機構、傳送機構、物料夾取機構、推桿機構、感測器檢測系統、控制面板、操作檯面與設備框架。
技術規格
| 項目 | 規格 |
|---|---|
| 型號 | JHPBT-590 |
| 清洗方式 | 在線式（對接前後線體，真空腔體清洗物料） |
| 電漿發生器功率 | 0–600 W 可調／13.56 MHz 射頻 |
| 真空系統 | 皮拉真空規（Pirani）；真空泵 油泵 TVP |
| 真空泵抽速 | 40 m³/h（雙極旋片泵） |
| 控制系統 | PLC：台達 Delta｜觸控螢幕：威綸通 Weintek｜電氣元件：施耐德 Schneider |
| 鋁合金封膜腔體 | 385 × 320 × 115 mm（L×W×H），可客製 |
| 有效清洗範圍 | 210 × 210 mm |
| 清洗尺寸範圍 | 210 × 210 × 50 mm（長×寬×高） |
| 相容尺寸 | Max 270 × 210 × 40 mm（長×寬×高） |
| 清洗氣體 | Ar／N₂／O₂／CDA／CF₄／H₂ 等 |
| 清洗氣路數量 | 2 路氣體（可同時接入兩種以上氣體） |
| 製程氣體流量計範圍 | 0–300 SCCM |
| 工作氣體 | 無水無油壓縮空氣 |
| 清洗時間 | < 60 秒 |
| 處理溫度 | < 45 °C |
| 清洗效果（水滴角） | < 20° |
| MES | 預留，支援掃碼上傳 |
| 設備尺寸 | 1300 × 1000 × 1800 mm（L×W×H） |
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